Ziel dieses Projekts war die Entwicklung neuartiger Dünnschichtsysteme für die Anwendung als Magnetfeldsensoren mit der Besonderheit der Sensitivität gegenüber senkrechten Feldern. Im Rahmen des Projekts sollten auch mikrostrukturierte Proben mit integrierter elektrischer Kontaktierung hergestellt werden; diese sind besonders im Hinblick auf die potentielle Anwendung von großem Interesse.

Magnetische Dünnschichtsysteme, die den Riesenmagnetowiderstand-Effekt (GMR) nutzen, finden vielfach Anwendung in der Magnetfeldsensorik. Für die Entwicklung von neuartigen 3D Magnetfeldsensoren, mit deren Hilfe sich die Magnetisierung in allen drei Raumrichtungen bestimmen lässt, ist die Messung von Feldern senkrecht zur Schichtebene eine wichtige Voraussetzung.

Das Projekt umfasste die Erprobung und Optimierung eines Schichtsystems mit gekreuzter magnetischer Anisotropie, welches eine hartmagnetische, ferrimagnetische Schicht mit Kompensationspunkt, also mit kompensierter Magnetisierung, beinhaltete. Diese fungiert als sogenannter „pinning layer“. Die Untersuchungen umfassten die Herstellung und Charakterisierung der Schichtsysteme sowie die Mikrostrukturierung ausgewählter optimierter Systeme. Hierzu wurden Wafer mit integrierter Kontaktierung hergestellt und Masken für die weiteren fotolithografischen Bearbeitungsschritte angefertigt.

Die erhaltenen Ergebnisse erlaubten eine Optimierung des pinning layers hinsichtlich seiner magnetischen Eigenschaften und zeigen die prinzipielle Anwendbarkeit des GMR-Schichtsystems zur Messung senkrechter Magnetfelder. Dabei konnten bereits potentielle Probleme im Schichtaufbau und in der folgenden Mikrostrukturierung identifiziert und Lösungen zu deren Vermeidung erarbeitet werden.

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